CESS(Central electrolyte supply system)는 배터리 생산에 필요한 전해액을 하역, 저장, 공급하는 시스템입니다.
Tank lorry에 입고된 전해액을 Piping line을 통해 Storage tank로 저장하고, 저장된 전해액을 Local tank 또는 Buffer Tank로 소액 분기
저장 후 전해액 분배용 MCB를 통해 최종 전해액 생산설비(PKG)에 공급하는 설비입니다.
AP Plasma는 주로 반도체, LCD, OLED 공정에서 사용하는 건식 세정 설비입니다.
기존의 DI-Water를 활용한 습식 세정 세정 방식에서 벗어나 플라즈마로 활성화된 산소 레디칼을 이용하여
표면 개질 및 유기물을 제거하는 친환경적인 세정 설비입니다.
대기압상태에서 초음파 세정이 가능하기 위해서는 적정 수준의 합성파 (입사파 + 반사파)를 형성해서 글라스 표면에 밀도가 높은 공기층을 만들고 충분한 음압으로
글라스 표면위의 입자(Particle)을 분리시켜야 하는데, 이를 위해서는 파동의 간섭성(Coherence length)이 일정하게 지속적으로 유지되는 것이 중요합니다.
AIK는 초음파 제어 기술을 확보하여 초음파의 levitation 효과를 유도 하는 독보적인 기술을 개발, 고성능의 USC를 상용화 하였습니다.
레이저 절단 공정 중 연기 제거할 수 있는 장치로, 소형, 경량으로 장치 내부에 설치가 가능하며,
소형모터를 적용한 저소음 구조로, 24시간 Full가동 및 15,000시간 이상 사용이 가능합니다.
- AID-6000-A (Filter와 Blower부 일체형, 장비내부 장착)
- AID-6000-B (Filter와 Blower부를 별도 구성,방폭구조)
- AID-10000-A (중형, 안정성, Maint 편의성 최적화, 10루베)
